[发明专利]成像方法无效

专利信息
申请号: 03808418.X 申请日: 2003-04-14
公开(公告)号: CN1646992A 公开(公告)日: 2005-07-27
发明(设计)人: A·J·M·内里森 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B41J2/447
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 邹光新;张志醒
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 通过多个子照射在射线敏感层(5)中形成光学图像,在每个子照射中,将光阀阵列(21-25)和对应的会聚单元阵列(91-95)用于根据子图像图案在抗蚀剂层上形成斑点图案(111-115)。在子照射之间,该抗蚀剂层相对于该阵列移动。通过将折射透镜(43)用作会聚单元获得了明亮并且良好限定的斑点。该射线敏感层可以是在基底上的抗蚀剂层,其中利用打印机中使用的光刻方法或者静电层构成了该器件。
搜索关键词: 成像 方法
【主权项】:
1.一种在射线敏感层上形成光学图像的方法,该方法包括以下步骤:-提供射线源;-提供射线敏感层;-将独立受控光阀的二维阵列放置在射线源和射线敏感层之间;-将射线会聚单元的二维阵列放置在光阀阵列和射线敏感层之间,使得每个会聚单元对应于一个不同的光阀并用于将来自对应光阀的射线会聚到射线敏感层的斑点区域中;-通过一方面对所述层区域、另一方面对相关的光阀/会聚单元对彼此相对地进行扫描,并且依据要由光阀写入的图像部分在开和关状态之间对每个光阀进行切换,在射线敏感层区域内同时写入图像部分;-其特征在于利用了折射透镜形式的会聚单元,并且在于使用了两个阵列来形成斑点矩阵阵列,所述矩阵的间距基本上大于斑点尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03808418.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top