[发明专利]光记录介质无效

专利信息
申请号: 03808652.2 申请日: 2003-04-14
公开(公告)号: CN1647178A 公开(公告)日: 2005-07-27
发明(设计)人: 井上弘康;平田秀树 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种光记录介质,其特征在于:被构成为从记录用的光或重放用的光的入射侧按顺序形成有记录层、第1吸收层和散热层,同时上述第1吸收层的消光系数k在上述记录用或重放用的光的波长中满足0.06≤k≤1.0。如上所述,按照该光记录介质,通过以在记录用或重放用的光的波长中使其消光系数k大于等于0.06小于等于1.0的方式构成第1吸收层,即使在以高密度进行了记录时,也可充分地提高重放耐久性,同时可充分地降低交叉擦除。由此,实现了能进行高密度记录而且重放耐久性高、难以发生交叉擦除的光记录介质。
搜索关键词: 记录 介质
【主权项】:
1.一种光记录介质,其特征在于:被构成为从记录用的光或重放用的光的入射侧按顺序形成有记录层、第1吸收层和散热层,同时上述第1吸收层的消光系数k在上述记录用或重放用的光的波长中满足0.06≤k≤1.0。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03808652.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top