[发明专利]光学构件用合成石英玻璃、投影曝光装置及投影曝光方法无效
| 申请号： | 03808732.4 | 申请日： | 2003-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN1646440A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | 生田顺亮;阿形纪之 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03C3/06 | 分类号： | C03C3/06;G02B1/02;H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 包于俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种光学构件用合成石英玻璃，在以ArF受激准分子激光器激光为光源的光学装置内，于能量密度2mJ/cm2/脉冲以下使用，或者是以KrF受准分子激光器激光为光源的光学装置内，于能量密度30mJ/cm2/脉冲以下使用，其特征在于，其氢分子浓度在1×1016分子/cm3以上、5×1016分子/cm3以下的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 构件 合成 石英玻璃 投影 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学构件用合成石英玻璃，在以ArF受激准分子激光器激光为光源的光学装置内，于能量密度2mJ/cm2/脉冲以下使用，或者在以KrF受准分子激光器激光为光源的光学装置内，于能量密度30mJ/cm2/脉冲以下使用，其特征在于，氢分子浓度在1×1016分子/cm3以上、5×1016分子/cm3以下的范围内。
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