[发明专利]多检测器缺陷检测系统和用于检测缺陷的方法无效
| 申请号： | 03808791.X | 申请日： | 2003-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN1646896A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | E·莱温;D·I·索梅;M·佩尔曼 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于检测基片缺陷的方法，包括：一种用于检测基片缺陷的方法，该方法包括下列步骤：(i)获得至少两个晶片单元检测信号(41、43、45、47)；每个晶片单元检测信号反映了向不同方向散射的光；每个晶片单元检测信号具有一个晶片单元检测值；(ii)响应至少两个晶片单元检测信号，计算至少一个晶片单元属性值；取回至少一个参考晶片单元属性值，每个晶片单元属性值对应于一个参考晶片单元属性值；和(iii)确定至少一个参考晶片单元属性值、晶片单元属性值和至少一个阈值之间的关系，以指示是否存在缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 检测器 缺陷 检测 系统 用于 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于检测基片缺陷的方法，该方法包括下列步骤：获得至少两个晶片单元检测信号；每个晶片单元检测信号反映了向不同方向散射的光；响应所述至少两个晶片单元检测信号，计算至少一个晶片单元属性值；取回至少一个参考晶片单元属性值，每个晶片单元属性值对应一个参考晶片单元属性值；以及确定所述至少一个参考晶片单元属性值、所述至少一个相应的晶片单元属性值和至少一个相应的阈值之间的关系，以指示是否存在缺陷。
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