[发明专利]使用单晶体管的高密度半导体存储单元和存储器陈列有效

专利信息
申请号: 03809184.4 申请日: 2003-04-22
公开(公告)号: CN101095238A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: J·Z·彭;D·方 申请(专利权)人: 基洛帕斯技术公司
主分类号: H01L29/94 分类号: H01L29/94;H01L31/062
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴立明;梁永
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开了一种可编程存储单元,包括位于列位线和行字线的交叉点处的晶体管。该晶体管的栅极由列位线形成,其源极连接到行字线。通过在列位线和行字线之间施加电压势,而在该晶体管的栅极下面的衬底中产生被编程的n+区,从而对所述存储单元编程。
搜索关键词: 使用 晶体管 高密度 半导体 存储 单元 存储器 陈列
【主权项】:
1.一种用在具有列位线和行字线的存储器阵列中的可编程存储单元,该存储单元包括:晶体管,具有栅极、在衬底上和栅极之间的栅极电介质,以及第一和第二掺杂半导体区,其形成在所述衬底中与所述栅极相邻,并相互隔开从而限定在其间和所述栅极下的沟道区,所述栅极由所述列位线之一形成;以及耦合到晶体管的第二掺杂半导体区的行字线段,所述行字线段连接到所述行字线之一。
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