[发明专利]热选择交叉点磁性随机存取内存胞元布局无效

专利信息
申请号: 03810023.1 申请日: 2003-04-01
公开(公告)号: CN1650369A 公开(公告)日: 2005-08-03
发明(设计)人: R·勒斯奇纳 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴立明;张志醒
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明乃与一电阻记忆装置(40)与其制造方法有关。该电阻记忆装置(40)所包含的磁性记忆胞元(14)具有一第二磁性层(20),其至少包含一第一与第二材料(24/26);该第二材料(26)的居里温度低于该第一材料(24)的居里温度。复数个非连续第二导线(22)乃配置于该磁性记忆胞元(14)之上。一电流(28)可通过于该第二导线(22)而使该第二材料(26)的温度至一高于该第二材料(26)居里温度的温度,以使该第二材料(26)丧失其铁磁性质,并提升了对内存数组(40)的写入选择性。
搜索关键词: 选择 交叉点 磁性 随机存取 内存 布局
【主权项】:
1.一电阻半导体记忆装置,包含:复数第一导线,其位于一第一方向;复数磁性记忆胞元,其配置于该等第一导线上;以及复数第二导线,其配置于该磁性记忆胞元上的一第二方向上,该第二方向与该第一方向不同,其中各该等第二导线是不连续的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于因芬尼昂技术股份公司,未经因芬尼昂技术股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03810023.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top