[发明专利]流体辅助低温清洗无效
| 申请号： | 03810362.1 | 申请日： | 2003-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN1665609A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | S·巴那基;H·F·春 | 申请（专利权）人： | 波克股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/00 | 分类号： | B08B3/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 周承泽 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及需要精细清洗的基材，如半导体、金属和绝缘膜的表面液体辅助低温清洗。该方法包括的步骤有将选自高蒸气压的液体、反应性气体和反应性液体蒸气的液体应用于基材表面，然后或同时对基材表面进行低温液体清洗以除去污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 辅助 低温 清洗 | ||
【主权项】：
1.去除需要精细清洗的基材表面的污染物的方法，包括以下步骤：a)将至少一种流体应用于基材表面，流体选自高蒸气压液体、反应性气体和反应性液体；和b)对基材表面进行低温清洗。
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