[发明专利]耐腐蚀线栅偏振器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 03810391.5 申请日: 2003-05-08
公开(公告)号: CN1653373A 公开(公告)日: 2005-08-10
发明(设计)人: M·莱恩斯;R·T·珀金斯 申请(专利权)人: 莫克斯泰克公司
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G02B5/30
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 杨晓光;于静
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种偏振装置(10),例如线栅偏振器,包括缓蚀剂坚实单层(24),该单层不会不利地影响偏振装置的光学性质。所述偏振装置可以包括光学元件(14)和纳米结构(16),例如设置在基板(28)上的多个隔开的长元件(32)的阵列。将所述缓蚀剂化学键接到所述元件的表面上以形成单层。所述单层可以具有小于大约100埃的厚度。一种形成所述坚实单层的方法可以包括用氨基膦酸酯,如次氮基三(亚甲基)三膦酸处理所述偏振装置。
搜索关键词: 腐蚀 偏振 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种耐腐蚀线栅偏振器装置,包括:a)透明基板,其具有透射具有在紫外线、可见光和红外线范围内的波长的电磁波的光学性质;b)设置在基板上的隔开的长元件的阵列,设置其尺寸使其与具有在紫外线、可见光和红外线范围内的波长的电磁波相互作用,以基本透射一个偏振的电磁波,并基本反射另一个偏振的电磁波;以及c)坚实单层,其化学键接到长元件上,而不会显著不利地影响透明基板透射电磁波的光学性质,并不会显著不利地改变透射通过隔开的长元件的阵列和透明基板的电磁波,所述单层由缓蚀剂形成并具有小于大约100埃的厚度。
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