[发明专利]用于含聚硅氮烷涂布膜的亲水性促进和亲水性保持剂有效
申请号: | 03811181.0 | 申请日: | 2003-05-13 |
公开(公告)号: | CN1653153A | 公开(公告)日: | 2005-08-10 |
发明(设计)人: | 铃木直;原宏;舟山彻;竹内秀夫 | 申请(专利权)人: | 克拉瑞特国际有限公司 |
主分类号: | C09K3/00 | 分类号: | C09K3/00 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 一种用于含聚硅氮烷涂布膜的亲水性促进或亲水保持剂的储液,由包含5-25wt%的阴离子表面活性剂、0.5-20wt%的两性表面活性剂、4-6wt%的非离子型表面活性剂和防腐剂(如果需要)的水溶液组成,用有机酸将溶液的pH调节至4.5-7.0。用水将储液稀释3-15倍制备亲水性促进剂,用水稀释30-70倍制备亲水性保持剂。在防污涂布膜上施覆亲水性促进剂,防污膜是通过在基底上涂布含聚硅氮烷和用于转化成二氧化硅的催化剂(如果需要)的涂覆流体形成的,因此该防污膜在短时间内被亲水化。而且,亲水性保持剂用作除去粘附到防污膜上的污垢和保持涂布膜亲水性的流体。 | ||
搜索关键词: | 用于 含聚硅氮烷涂布膜 亲水性 促进 和亲 水性 保持 | ||
【主权项】:
1.一种用于含聚硅氮烷涂布膜的亲水性保持和促进剂的未稀释溶液,它是一种pH值在4.5-7.0范围内的水溶液,含有5-25wt%的阴离子表面活性剂、0.5-20wt%的两性表面活性剂、4-6wt%的非离子型表面活性剂以及如果需要的话一种防腐剂。
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