[发明专利]用于微蚀刻玻璃基板的熔体的pH调整有效
| 申请号： | 03811425.9 | 申请日： | 2003-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN1656037A | 公开（公告）日： | 2005-08-17 |
| 发明（设计）人： | T·L·詹森;J·W·马里耶;D·H·皮尔廷斯鲁达;R·A·斯普拉格 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | C03C21/00 | 分类号： | C03C21/00;C03C15/02;C03C23/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;黄革生 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种调整增强熔体的pH以提供用于微蚀刻玻璃基板(如用于数据存储设备中的玻璃盘片基板)的经调整的熔体的方法。将碱加入到增强熔体中以升高其pH。在硅铝酸盐玻璃盘片基板上提供所需程度的微蚀刻，例如，通过在360℃浸入调整具有10的pH的熔体中2－4小时。这种单一的操作既增强玻璃基板又微蚀刻玻璃基板。玻璃基板的表面的轻微蚀刻，即微蚀刻，改善了由基板所制得数据存储盘片的性能和耐久性。为了避免可使玻璃表面产生不希望的损坏的过度强烈的蚀刻，如果pH随后确定为已移至高于上限可向熔体中加入酸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 玻璃 ph 调整 | ||
【主权项】：
1.一种调整增强熔体的pH以提供用于微蚀刻玻璃基板的经调整的熔体的方法，包括以下步骤：提供增强熔体；通过将碱加入到增强熔体中使得被调整熔体的pH足以微蚀刻具有选定玻璃组成的玻璃基板提供经调整的熔体。
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