[发明专利]带有适合射频应用的导体结构的元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 03811798.3 申请日: 2003-05-23
公开(公告)号: CN1685507A 公开(公告)日: 2005-10-19
发明(设计)人: 于尔根·莱布;迪特里希·蒙德 申请(专利权)人: 肖特股份公司
主分类号: H01L23/66 分类号: H01L23/66
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李勇
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种用于制造基片(1)的方法,所述基片包括适合于射频应用的导体配置(4,41,42),所述基片具有改善的射频特性。该制造方法包括如下步骤:将在触点连接区(71-74)上方具有至少一个开口(8)的结构化玻璃层(9,91,92,93,13)沉积到基片(1)上;以及将至少一个导体结构(100,111,112,113)敷设到玻璃层(9,91-93)上,所述导体结构与触点连接区(71-74)电接触。
搜索关键词: 带有 适合 射频 应用 导体 结构 元件 制造 方法
【主权项】:
1、一种用于制造元件(10)的方法,所述元件具有适用于射频应用的导体结构(4,41,42),包括如下步骤:-通过蒸镀将结构化的玻璃层(9,91,92,93,13)沉积到基片(1)上,其中所述玻璃层在触点连接区(71-74)上方具有至少一个开口(8);以及-将至少一个导体结构(100,111,112,113)敷设到玻璃层(9,91,92,93)上,所述导体结构与触点连接区(71-74)电接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于肖特股份公司,未经肖特股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03811798.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top