[发明专利]制备用于化学气相沉积的汽化反应物的方法和装置

摘要

选择一种或多种涂层前体(30)。汽化室具有将液体涂层前体连续注入室中以产生蒸汽(42)的结构。无密封的磁驱动部分(24)使得用于将所述液体涂层前体分布在所述室中的结构旋转。在一个实施方案中，在邻近汽化室的位置处注入隔离气体(102)，其速度大于蒸汽的扩散速度，以阻止蒸汽与磁驱动部分接触。在另一个实施方案中，磁驱动部分的第一部分被连接于将所述液体涂层前体分布在所述室中的结构。但是与第一部分邻近的第二部分位于汽化室外，该部分与第一部分磁耦合，并且使第一部分旋转。

主权项

1.一种制备汽化反应物的装置，它包括：一种或多种涂层前体，其中，所述前体是温度高于其熔点并且大大低于其标准蒸发温度的金属或硅化合物，由此产生了液体形式的所述涂层前体；磁驱动部分，它具有驱动磁体和受驱磁体以及用于校准所述磁体的结构；具有入口的汽化室，该入口用于将所述液体涂层前体连续注入所述室中，以产生蒸汽；与所述磁驱动部分邻近并且其中存在气体的隔离部分；以及用于将所述液体涂层前体分布在所述室中的结构，所述结构通过所述隔离部分而与所述磁驱动部分相连。