[发明专利]利用高强度超声波制备晶体物质无效
申请号: | 03812364.9 | 申请日: | 2003-05-08 |
公开(公告)号: | CN1726069A | 公开(公告)日: | 2006-01-25 |
发明(设计)人: | L·J·麦考斯兰德 | 申请(专利权)人: | 阿山特斯有限公司 |
主分类号: | B01D9/00 | 分类号: | B01D9/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 韦欣华;段晓玲 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 通过形成物质的饱和溶液、改变该溶液的温度以使其变得超饱和、使用高强度超声波短暂照射该溶液然后在无照射的条件下让该溶液逐步冷却,从而制备足够纯的用于药品的晶体物质。使用器壁上附着一系列超声波转换器的容器来施加超声波,这样的每一个转换器的照射不超过3W/cm2,然而该容器中的功率耗散在25和150W/升之间。这种方法可以将亚稳态区域宽度减少到小于10k。没有器壁的侵蚀并且没有随之发生的微小金属粒子的形成。该方法可应用于例如阿斯巴甜和氨基酸等物质。 | ||
搜索关键词: | 利用 强度 超声波 制备 晶体 物质 | ||
【主权项】:
1.一种用于生产晶体物质的方法,该方法包含形成该物质的饱和溶液、改变该溶液的温度以使其变得超饱和以及通过高强度超声波照射该溶液,仅当该溶液超饱和时施加超声波并直到形成晶体,然后让晶体在无照射的条件下在溶液中生长。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿山特斯有限公司,未经阿山特斯有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03812364.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:存储器接口和数据处理系统
- 下一篇:含填充材料的聚烯烃树脂组合物及其成形品