[发明专利]用于高精密度抛光的金属氧化物粉末及其制备方法无效
| 申请号： | 03812996.5 | 申请日： | 2003-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN1659252A | 公开（公告）日： | 2005-08-24 |
| 发明（设计）人： | 权赫真;安明镐;郑永权;李鳞渊 | 申请（专利权）人： | 三星康宁株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于高精密度抛光的金属氧化物粉末及其制备方法，所述金属氧化物粉末包含由初级颗粒聚集形成的聚集体，其具有1.1至2.0的聚集度(α)及3至10的聚集等级(β)，所述聚集度(α)和聚集等级(β)可分别由式(I)和式(II)定义：α=6/(S ×ρ× d(XRD)) (I)β＝重量平均粒径/d(XRD) (II)其中，S为该粉末的比表面积；ρ为密度；及d(XRD)为由X射线衍射分析所测得的粉末粒径。本发明的粉末可提供高抛光速度并减少刮伤。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 精密度 抛光 金属 氧化物 粉末 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种包含由初级颗粒聚集形成的聚集体的金属氧化物粉末，其具有1.1至2.0的聚集度(α)及3至10的聚集等级(β)，所述聚集度(α)及聚集等级(β)可分别由式(I)和式(II)定义：α＝6/(S×ρ×d(XRD)) (I)β＝重量平均粒径/d(XRD) (II)其中，S为该粉末的比表面积；ρ为密度；d(XRD)为由X射线衍射分析所测得的粉末粒径。
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