[发明专利]形成有机薄膜的方法无效
| 申请号： | 03813163.3 | 申请日： | 2003-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1659303A | 公开（公告）日： | 2005-08-24 |
| 发明（设计）人： | 簗嶋克典;成井启修;目目泽聪彦;佐佐木浩司 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12;C23C14/24;H05B33/10;H05B33/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 范明娥;巫肖南 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种在没有加热成膜表面下在衬底表面形成性质均匀的有机薄膜的方法。蒸发单一的有机材料的成膜成分而产生气体(成膜成分气体)(g2)，并向放置衬底(W)的反应室(11)输送并供入，并在反应室(11)内的衬底(W)上淀积保持成膜成分的有机材料以形成有机薄膜。当有机材料淀积时，衬底(W)保持冷却。通过载气如惰性气体(g1)向反应室(11)输送并供入成膜成分气体(g2)。通过重复有机材料的这种淀积，可形成多层不同成膜材料的有机薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 有机 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1.形成有机薄膜的方法，包括蒸发单一的有机材料的成膜成分，向放置衬底的反应室输送并供入所得的气体，并在反应室内的衬底表面上淀积单一的有机材料的成膜成分。
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