[发明专利]曝光头及曝光装置和它的应用无效

专利信息
申请号: 03813191.9 申请日: 2003-04-09
公开(公告)号: CN1659479A 公开(公告)日: 2005-08-24
发明(设计)人: 石川弘美;永野和彦;冈崎洋二;藤井武;山川博充 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社;富士能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;D06M10/00;B41J2/447;H05K3/00;H04N1/036
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的曝光头及曝光装置,对于空间调制元件,将个数少于排列在其基板上的象素部的总个数的多个象素部分别利用根据曝光信息制成的控制信号来控制。由于不对排列在基板上的象素部的全部进行控制,因此所控制的象素部的个数变少,控制信号的传送速度加快。这样就可以加快激光的调制速度,从而可以实现高速曝光。作为激光装置,通过使用包括将激光合波而向光纤入射的合波激光光源的光纤阵列光源,可以获得高亮度、高输出,特别在半导体激光器中十分有效。另外,由于可以减少阵列化的光纤的条数,因此成本低,可以缩小阵列化时的发光区域。本发明的曝光装置可以应用于光造型装置等多种用途中。
搜索关键词: 曝光 装置 应用
【主权项】:
1.一种曝光头,是相对于曝光面沿与特定方向交叉的方向被相对移动的曝光头,其特征是,包括:照射激光的激光装置;空间光调制元件,在基板上2维排列有根据各个控制信号光调制状态发生变化的多个象素部,对由所述激光装置照射的激光进行调制;控制机构,通过根据曝光信息生成的控制信号对个数少于排列在所述基板上的象素部的总个数的多个象素部分别进行控制;光学系统,使在各象素部调制了的激光在曝光面上成像。
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