[发明专利]用于在适形接触掩模电镀操作期间监测沉积质量的方法和装置有效
| 申请号： | 03813332.6 | 申请日： | 2003-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN1659317A | 公开（公告）日： | 2005-08-24 |
| 发明（设计）人： | 张刚;A·L·科恩 | 申请（专利权）人： | 南加州大学 |
| 主分类号： | C25D21/12 | 分类号： | C25D21/12;C25D5/02;C25D5/12;C25D1/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了电化学制造(例如，EFAB)工艺和装置，其在选择性沉积期间提供对至少一种电参数(例如，电压)的监测，其中监测的参数用于帮助确定所做的沉积的质量。如果监测的参数指示沉积出现了问题，可以采取各种补救操作以成功形成将要完成的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 接触 电镀 操作 期间 监测 沉积 质量 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电化学制造工艺，用于从多个粘结层制作三维结构，该工艺包括：(A)在衬底上选择性地沉积一层的至少一部分，其中该衬底包括先前沉积的材料；(B)形成多个层，以便邻接和粘结到先前沉积的多个层而形成多个连续层，其中该形成过程包括多次重复操作(A)；其中至少多次选择性沉积操作包括：(1)在衬底上或者接近衬底上设置掩模；(2)在电镀溶液中，在阳极和衬底之间通过掩模中的至少一个开口传导电流，以便将选定的沉积材料沉积在衬底上以形成一层的至少一部分；和(3)从衬底去除掩模；及其中在给定层的形成期间，监测阳极和阴极之间的电压。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南加州大学，未经南加州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03813332.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：含支链氨基酸颗粒的生产方法
- 下一篇：受控共享存储器智能交换机系统
