[发明专利]利用相控阵微波激发的沉积方法和沉积设备无效

专利信息
申请号: 03813690.2 申请日: 2003-03-31
公开(公告)号: CN1659309A 公开(公告)日: 2005-08-24
发明(设计)人: C·M·卡彭特;R·S·丹多;P·H·坎贝里 申请(专利权)人: 微米技术有限公司
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511;H01Q21/00;C23C16/455;C23C16/40;C23C16/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 廖凌玲;蔡民军
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明包括一种沉积设备,所述沉积设备具有反应腔室和在所述腔室外部的微波源。所述微波源被构造用以引导微波射线朝向所述腔室。所述腔室包括窗口,来自微波源的微波射线可通过所述窗口进入所述腔室。本发明还包括沉积方法(例如化学气相沉积(CVD)方法或原子层沉积(ALD)方法),其中微波射线被用以在将材料沉积到反应腔室内的衬底上的过程中活化反应腔室内的至少一种组分。
搜索关键词: 利用 相控阵 微波 激发 沉积 方法 设备
【主权项】:
1、一种沉积方法,包括在将材料沉积到反应腔室内的衬底上的过程中,微波激发反应腔室内的组分;所述激发过程由进入所述反应腔室内的相控阵微波引起。
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