[发明专利]掺杂B/C/N/O/Si溅射靶的制备无效
申请号: | 03813790.9 | 申请日: | 2003-07-02 |
公开(公告)号: | CN1659306A | 公开(公告)日: | 2005-08-24 |
发明(设计)人: | 张文军 | 申请(专利权)人: | 黑罗伊斯有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 郭国清;樊卫民 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及一种掺杂非金属元素的溅射靶的制备方法,其中非金属元素包括硼、碳、氮、氧和硅。使用粉末工艺,由此将合金粉末混合、封装和进行等静热压固结,所述合金粉末包括非金属元素B/C/N/O/Si,且非金属包括低于微米级的微观结构相。本发明的溅射靶可避免在靶材料溅射到基材上的过程中的喷溅问题。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 si 溅射 制备 | ||
【主权项】:
1.一种制备掺杂非金属添加剂溅射靶的方法,该方法包括如下步骤:(a)制备和选择掺杂有至少一种非金属的原材料元素粉末或合金,其中所述粉末具有低于约10μm的微观结构;(b)封装;(c)等静热压;和(d)设备成形得到溅射靶。
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