[发明专利]光波导无效

专利信息
申请号: 03814306.2 申请日: 2003-04-22
公开(公告)号: CN1662833A 公开(公告)日: 2005-08-31
发明(设计)人: M·A·哈泽;J·-Y·张 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 顾敏
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 披露了一种具有光学密封层的光波导。“光学密封层”是指在光波导器件中与芯层和包覆层不同的层,它的折射率比包覆层的折射率低并且具有图案,从而在波导中对光进行侧向引导;“侧向”方向是指在光学密封层平面的方向上。该波导具有下包覆层、芯层、与芯层贴近的有图案的光学密封层、任意的上包覆层和任意的基底。光学密封层可以包含如MgF2、LiF或任何其它低折射率的材料。芯层可以包含用如铝、钛、钽、锆、锗、铪或磷掺杂的高折射率的二氧化硅。或者,芯层可以包含氧氮化硅(SiON)或氮化硅(Si3N4)。包覆层可以包含二氧化硅。例如,下包覆层可以包含用硼或氟掺杂的低折射率的二氧化硅。基底可以包含硅或二氧化硅。或者,包覆层和芯层可以分别包含聚合物。在某些实施方案中,波导可以包括用稀土元素如铒掺杂的层。光学密封层的位置可以变化,只要它贴近芯层就可。例如,光学密封层可以在下包覆层和芯层之间,在上包覆层和芯层之间,嵌入芯层内,嵌入上包覆层内,或嵌入下包覆层内。
搜索关键词: 波导
【主权项】:
1.一种光波导,它包含:下包覆层,芯层,和与芯层贴近的有图案的光学密封层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03814306.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top