[发明专利]形成半导体处理用部件的方法无效
申请号: | 03814307.0 | 申请日: | 2003-06-17 |
公开(公告)号: | CN1662471A | 公开(公告)日: | 2005-08-31 |
发明(设计)人: | Y·纳伦德拉;E·L·马斯特罗维托 | 申请(专利权)人: | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
主分类号: | C04B35/573 | 分类号: | C04B35/573 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 余岚 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 揭示了一种形成碳化硅部件的方法。该方法要求提供一种包括碳的预成形体,纯化该预成形体以除去杂质形成经纯化的预成形体,将经纯化的预成形体与熔融的包括硅的浸渗剂接触。按照上述方法,熔融的浸渗剂与碳反应形成碳化硅。根据此方法形成的碳化硅部件特别适合用于半导体制造工艺,可作为半导体处理用部件。 | ||
搜索关键词: | 形成 半导体 处理 部件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种形成碳化硅部件的方法,该方法包括:提供含碳的预成形体;纯化该预成形体以除去杂质,形成经纯化的预成形体;和使经纯化的预成形体与熔融的包含硅的浸渗剂接触,熔融的浸渗剂与碳反应形成碳化硅。
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