[发明专利]使用低蒸气压气体前体向基材上沉积膜的系统无效
| 申请号： | 03814415.8 | 申请日： | 2003-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN1662674A | 公开（公告）日： | 2005-08-31 |
| 发明（设计）人： | S·C·塞尔布雷德;M·朱克;V·文图罗 | 申请（专利权）人： | 马特森技术公司 |
| 主分类号： | C23C16/18 | 分类号： | C23C16/18;C23C16/40 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢新华;庞立志 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种向基材(35)上沉积膜的方法。基材(35)容纳在压力为约0.1－100毫托的反应器容器(1)内。该方法包括使基材(35)经受一个包括以下步骤的反应周期：i)向反应器容器(1)提供一种温度为约20－150℃、蒸气压为约0.1－100托的气体前体，其中所述气体前体包括至少一种有机金属化合物；和ii)向反应器容器(1)提供一种吹扫气体，一种氧化气体或其组合。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 蒸气 压气 体前体 基材 沉积 系统 | ||
【主权项】：
1.一种向基材上沉积膜的方法，其中基材容纳在压力为约0.1-约100毫托的反应器容器之内，所述方法包括使基材经受包括以下步骤的反应周期：i)向反应器容器提供一种温度为约20-约150℃、蒸气压为约0.1-约100托的气体前体，其中所述气体前体包括至少一种有机金属化合物；和ii)向反应器容器提供一种吹扫气体、一种氧化气体或其组合。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
