[发明专利]吸音体、吸音构造体及其制造方法有效
| 申请号： | 03815140.5 | 申请日： | 2003-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1666251A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | 合田宏史;菅原稔;斋藤义昭;菅武春;冈村雅晴;酒井利文 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社;吉品大协株式会社 |
| 主分类号： | G10K11/16 | 分类号： | G10K11/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 胡强;杨松龄 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种吸音体、吸音构造体及其制造方法。吸音体(40)具有包括2个未膨胀层(41、42)和由这些未膨胀层(41、42)所夹并且具有多个空隙的膨胀层(43)的成形体(44)，在前述成形体(44)的任意部位上形成有多个孔(41A)，所述多个孔(41A)的深度为，贯通前述一个未膨胀层(41)而未到达另一个未膨胀层(42)，孔(41A)的截面积为0.785～314mm2，其节距为1mm以上。不必将多种材料粘合，而是通过一体成形，就可以确保吸音性能及隔音性能这两种性能，而且能够只选择性地吸收令人不快的声音。 | ||
| 搜索关键词： | 吸音 构造 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种吸音体，其特征在于：具有包括2个未膨胀层和由这些未膨胀层所夹并且具有多个空隙的膨胀层的成形体；在前述成形体的任意部位上形成有多个孔，所述多个孔的深度为，贯通前述一个未膨胀层而未到达另一个未膨胀层；前述孔的截面积为0.785～314mm2，其节距为1mm以上。
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