[发明专利]图案细微化用涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法无效
| 申请号： | 03815397.1 | 申请日： | 2003-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN1666155A | 公开（公告）日： | 2005-09-07 |
| 发明（设计）人： | 菅田祥树;金子文武;立川俊和 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于图案细微化的涂膜形成剂，是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂：在具有光致抗蚀剂图案的基板上涂敷该涂膜形成剂，利用其热收缩作用缩小光致抗蚀剂图案的间隔后，实质上完全除去该涂膜，形成细微图案，其特征在于该涂膜形成剂含有水溶性聚合物和含酰胺基的单体，或者含有至少含有(甲基)丙烯酰胺作为构成单体的水溶性聚合物。本发明还提供一种使用上述任何一种用于图案细微化的涂膜形成剂形成细微图案的方法。利用本发明，可以显著提高加热处理时用于图案细微化的涂膜形成剂的热收缩率，能够得到外形良好、具备现有半导体器件所要求特性的细微图案。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 细微 化用 形成 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于图案细微化的涂膜形成剂，是一种用于按以下方式形成细微图案的涂膜形成剂：将其涂敷在具有光致抗蚀剂图案的基板上，利用该涂膜的热收缩作用缩小光致抗蚀剂图案的间隔后，实质上完全除去该涂膜，形成细微图案，其特征在于，该涂膜形成剂含有水溶性聚合物和含酰胺基的单体。
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