[发明专利]含氟不饱和化合物及其制造方法无效

专利信息
申请号: 03815726.8 申请日: 2003-07-03
公开(公告)号: CN1665769A 公开(公告)日: 2005-09-07
发明(设计)人: 古川丰 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C07C43/17 分类号: C07C43/17;C07C41/06
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 胡烨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供新型的含氟不饱和化合物及其制造方法。含氟不饱和化合物是R1CY1HCY2Y3OQ1CH=CH2或CH2=CHQ2OCZ1Z2CZ3HR2CZ4HCZ5Z6OQ3CH=CH2所示的物质(R1表示1价含氟有机基等;R2表示2价含氟有机基等;Y1-Y3、Z1-Z6是氟原子;Q1、Q2为亚烷基等)。含氟不饱和化合物的制造方法是在碱金属化合物的存在下使具有-CX1=CX2X3的化合物与HOQCH=CH2反应,制成具有-CX1HCX2X3OQCH=CH2(X1-X3是氟原子,Q是亚烷基等)所示基团的化合物的制造方法。
搜索关键词: 不饱和 化合物 及其 制造 方法
【主权项】:
1.含氟不饱和化合物,其特征在于,它是由式1或式2所示的化合物:R1CY1HCY2Y3OQ1CH=CH2 …式1CH2=CHQ2OCZ1Z2CZ3HR2CZ4HCZ5Z6OQ3CH=CH2…式2其中R1表示1价有机基、卤原子或氢原子;R2表示2价有机基;Y1、Y2、Y3分别独立表示氢原子或氟原子、R1不是氟原子时,Y1、Y2、Y3中的至少一个为氟原子;Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6分别独立表示氢原子或氟原子,Z1、Z2、Z3中的至少一个为氟原子,并且Z4、Z5、Z6中的至少一个为氟原子;Q1、Q2、Q3分别独立表示2价有机基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社,未经旭硝子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03815726.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top