[发明专利]制作盘形记录介质的旋涂装置和方法无效

专利信息
申请号: 03816314.4 申请日: 2003-07-09
公开(公告)号: CN1669081A 公开(公告)日: 2005-09-14
发明(设计)人: 山口晴彦;淀川吉见;宇佐美守;丑田智树;出泽圣一 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: G11B7/26 分类号: G11B7/26;B05C11/08;B05D1/40
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 吴鹏;马江立
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及制作盘形记录介质的旋涂装置和方法。所述旋涂装置可防止对一盘进行旋涂时采用的一掩膜受到损坏。更具体地说,所述装置结构如下。首先,将一掩膜放置到一位于一旋涂器上的盘件上,然后进行旋涂。紧接之后,连续地对移离该盘件的单个掩膜进行清洗、冲洗及干燥处理,这些处理之后的掩膜相继发送给下一旋涂操作。
搜索关键词: 制作 记录 介质 装置 方法
【主权项】:
1.一种用于通过给一盘件的靠近中央的部分供应一液态材料并转动所述盘件以利用一离心力散布所述液态材料而在所述盘件上形成所述液态材料的膜的旋涂装置,所述旋涂装置包括:适于在转动的同时夹持所述盘件的一旋涂器机构;一掩膜供给/移除机构,当所述盘件在所述旋涂器机构内转动时,所述掩膜供给/移除机构给所述盘件供应一覆盖所述盘件中心及环绕所述中心的一部分的掩膜,并且在所述盘件已经完成转动后,所述掩膜供给/移除机构将所述掩膜移离所述盘件;一分配器机构,当所述盘件和所述掩膜在所述旋涂器机构内保持并转动时,所述分配器机构给所述盘件与所述掩膜中的至少一个的上表面供应所述液态材料;以及一清洗机构,所述清洗机构从所述掩膜供给/移除机构接收一其上附着有所述液态材料的掩膜,清洗经接收的所述掩膜以除去附着在其上的所述液态材料,以及将经清洗的所述掩膜转送到所述掩膜供给/移除机构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03816314.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top