[发明专利]浮雕形成方法和设备有效

专利信息
申请号: 03816460.4 申请日: 2003-05-13
公开(公告)号: CN1668440A 公开(公告)日: 2005-09-14
发明(设计)人: R·M·阿莫斯;G·P·布赖安-布朗;E·L·伍德;J·C·琼斯;P·T·沃辛 申请(专利权)人: ZBD显示器有限公司
主分类号: B29C43/22 分类号: B29C43/22;B29C59/04;G02F1/1337
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 杨凯;张志醒
地址: 英国伍*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 一种用于形成具有图案的层的方法和设备,所述具有图案的层具有提供电子器件内的浮雕结构的表面外观。所述方法包括:产生载体薄膜(50),所述载体薄膜具有在其一侧形成的所需表面外观的反面;产生位于基片(52)上的可固化材料层(54);使载体薄膜(50)和基片(52)叠压,使得载体薄膜导致在可固化材料层中形成具有预定偏移量的所需的表面外观;以及使可固化材料固化。可以利用辊子(56,58)或真空法来进行所述叠压。所述过程设计成确保保持尽可能低的偏移量,最好在150nm以内。
搜索关键词: 浮雕 形成 方法 设备
【主权项】:
1.一种把可固化材料层模压出表面外观浮雕的方法,所述方法包括以下步骤:a)产生载体薄膜,它具有形成在其一侧的所需表面外观的反面;b)产生位于包括电极的基片上的可固化材料层;c)把所述载体薄膜和所述基片叠压,使得所述载体薄膜导致在所述可固化材料层中形成所需的表面外观;以及d)使所述可固化材料固化,其中,这样进行所述方法,使得所述表面外观的偏移量除以所述可固化材料的相对介电常数的结果小于1000nm。
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