[发明专利]光学基底及其制造方法有效
| 申请号： | 03816663.1 | 申请日： | 2003-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN1668942A | 公开（公告）日： | 2005-09-14 |
| 发明（设计）人： | 尤金·G·奥尔克扎克 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明披露一种光学表面基底。光学基底的特征在于相关长度为约1厘米或更小的三维表面。光学基底是由第一表面结构函数定义的，第一表面结构函数由第二表面结构函数调制，第一表面结构函数从第一输入光束中产生至少一个镜像分量。光学基底适用于多种应用，包括亮度增强和投影器件在内。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 基底 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种模拟光学基底(100)的表面的方法，所述方法包括：在坐标系统内定义第一窗口(216)；在第一窗口(216)内定义主函数(210)；在第一窗口(216)内的第一位置处，定义作为第一窗口(216)部分的第二窗口(200)；在第二窗口(200)内选择点集合；定义使所选择的点集合互相连接的调制通道(206)；沿着调制通道(206)定义表面函数；沿着调制通道(206)调制表面函数；结合调制的表面函数和主函数(210)，从而在调制通道(206)的范围内产生三维结构图案。
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