[发明专利]防晒制剂无效
| 申请号： | 03816794.8 | 申请日： | 2003-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1668675A | 公开（公告）日： | 2005-09-14 |
| 发明（设计）人： | K·贝格－舒尔茨;U·于贝 | 申请（专利权）人： | DSMIP资产有限公司 |
| 主分类号： | C08G77/38 | 分类号： | C08G77/38;C08G77/388 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 刘金辉;林柏楠 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 可用作防晒制剂的基于聚甲基硅氧烷的新化合物，其每分子包含呈任意顺序的2－200个吸收紫外线的生色团，2－200个亲油基团，任选的1－100个能够形成离子键或氢键的基团以及任选的1－20个式－O－SiH(CH3)－的单元；以及含有它们的组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 防晒 制剂 | ||
【主权项】：
1.聚硅氧烷，其特征在于每分子具有如下结构单元：一个式(I)单元：(H3C)3-Si- (I)，一个式(II)单元：-O-Si(CH3)3 (II)，2-200个呈随机顺序的选自下式的相同或彼此不同的单元：-O-Si(CH3)[CH(CH3)R1]- (IIIa)，-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R1)- (IIIb)，-O-Si(CH3)[C(＝CH2)R1]- (IIIc)，和-O-Si(CH3)[CH＝CH-R1]- (IIId)；2-200个呈随机顺序的选自下式的相同或彼此不同的单元：-O-Si(CH3)[CH(CH3)R2]- (IVa)，-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R2)- (IVb)，-O-Si(CH3)[C(＝CH2)R2]- (IVc)，和-O-Si(CH3)(CH＝CH-R2)- (IVd)；任选的1-100个呈随机顺序的选自下式的相同或彼此不同的单元：-O-Si(CH3)[CH(CH3)R3]- (Va)，-O-Si(CH3)(CH2-CH2-R3)- (Vb)，-O-Si(CH3)[C(＝CH2)R3]- (Vc)，和-O-Si(CH3)(CH＝CH-R3)- (Vd)；以及任选的1-20个呈随机顺序的式(VI)单元：-O-SiH(CH3)- (VI)其中R1是紫外线吸收基团；R2是氢或亲油基团；R3是能够形成离子键或氢键的基团。
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