[发明专利]投影光学系统、微影方法、曝光装置及使用此装置的方法有效
| 申请号： | 03817253.4 | 申请日： | 2003-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN1668984A | 公开（公告）日： | 2005-09-14 |
| 发明（设计）人： | 大村泰弘;池泽弘范;大卫·M·威廉森 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种在宽广视野上以高分辨率投影成像(image)的微影浸没投影系统(lithographic immersion projection system)与方法。上述投影系统与方法包括一个在光进入浸没液体并撞击成像平面之前减少光径的边缘光线角度的最终透镜。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 方法 曝光 装置 使用 | ||
【主权项】：
1.一种投影光学系统，用以投影一第一平面的一成像至一第二平面上，其特征在于：该投影光学系统包括：一边界透镜；以及至少一层浸没介质，位于该边界透镜与该第二平面之间；其中具有一第一平面侧光学表面的该边界透镜被制成对于经由该边界透镜投影至该第二平面上的光而言入射前的边缘光线收敛角度大于在该边界透镜内的边缘光线收敛角度。
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