[发明专利]气体分析设备有效
| 申请号： | 03817591.6 | 申请日： | 2003-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1672034A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·约兰·埃瓦尔德·马丁 | 申请（专利权）人： | 森谢尔公司 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 蔡洪贵 |
| 地址： | 瑞典代*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 本发明涉及气体分析设备(1)，包括：容纳气体试样(″G″)的腔室(20)，光发射装置(3)，用于接收通过腔室反射的光的装置(4)，用于计算的电子电路(5)，电子电路可调整以通过光谱分析来分析和确定腔室(20)中以试样(″G″)存在的选择气体或混合气体的存在。所述腔室提供一或多个用于气体进出所述腔室的孔。所述腔室设置为稍微有点弯曲的形状，具有在所述光发射装置(3)和所述光接收装置(4)间延伸的至少一个凹曲的光反射表面(30b)。所述孔(30)定位于在所述光发射装置(3)和所述光接收装置(4)间的有限连续区域上，并且所述孔(30)设置有大小和长度范围，为腔室(20)中的试样(″G″)与另一种气体试样提供快速被动交换。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 分析 设备 | ||
【主权项】：
1.一种气体分析设备，包括：容纳气体试样的腔室(20)，光发射装置(3)，用于接收通过腔室反射的光的装置(4)，电子电路(5)，电子电路可调整使得能够通过光谱分析来分析和确定腔室(20)中作为气体试样(″G″)存在的选择的气体或混合气体的存在，腔室(20)中的表面(30a，30b，30c)提供光反射性能；此外，所述腔室提供一个或多个用于气体进出所述腔室的孔(30)，腔室设置一个延伸的形状，使所述一个或多个孔定位在腔室中位于所述光发射装置(3)和所述光接收装置(4)之间，其特征在于：所述腔室(20)和/或腔室的一个光反射表面在所述光发射装置(3)和所述光接收装置(4)之间设置成稍微有点弯曲的形状，所述孔(30)和/或多个孔(30a，30b)在所述光发射装置(3)和所述光接收装置(4)之间延伸，并且所述孔(30)具有的尺寸和纵向范围可使腔室中的气体试样(“G”)与另一试样进行快速交换。
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