[发明专利]可改写光学介质、读出和/或写入可改写光学介质的设备以及制造可改写盘的方法无效
| 申请号： | 03817710.2 | 申请日： | 2003-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1672198A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | M·凯珀;O·K·安德森;J·M·特尔默伦 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/09 | 分类号： | G11B7/09;G11B7/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 龚海军;陈景峻 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在这个光学介质(1)中，在材料的各层(40和41)之间嵌入预刻槽轨道(5)，用于产生称之为推挽信号的跟踪信号。这个推挽信号在写入的轨道和空的轨道之间有相当大的变化。对于读出和/或写入的干扰很大。形成光学介质的材料在写入的轨道和未写入的轨道之间的相位方面存在略微正向的微弱变化，并且平均反射系数幅度的数量级为0.5或更大些，这样的光学介质可以避免这样的干扰。 | ||
| 搜索关键词： | 改写 光学 介质 读出 写入 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学介质，其中在各材料层之间嵌入预刻槽轨道，用于产生跟踪信号，其特征在于：这种材料在写入的轨道和未写入的轨道之间的相位存在略微正向的、微弱的变化，平均反射系数的幅度的数量级为0.5或更大。
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