[发明专利]纳米粒子的制造方法和制造装置,以及纳米粒子的保存方法无效
| 申请号： | 03817939.3 | 申请日： | 2003-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN1671468A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | 川上友则;李博;平松光夫 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | B01J19/12 | 分类号： | B01J19/12 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米粒子制造方法，向由悬浊粒子所悬浊的被处理液(8)的激光照射部位(2a)照射激光，粉碎激光照射部位(2a)的悬浊粒子，来制造纳米粒子，其中，冷却被处理液(8)的激光照射部位(2a)。这种情况下，冷却被处理液(8)，由此悬浊粒子整体被冷却。如果向该被处理液(8)的部位(2a)照射激光，就由该部位(2a)的悬浊粒子表面吸收激光。此时，由于冷却了被处理液(8)，在激光照射部位(2a)，在悬浊粒子的内部和表面、以及悬浊粒子的表面和被处理液之间会产生显著的温度差，可实现高效率的纳米粒子化。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 粒子 制造 方法 装置 以及 保存 | ||
【主权项】：
1.一种纳米粒子的制造方法，包括：纳米粒子制造工序，通过对由悬浊粒子所悬浊的被处理液的激光照射部位照射激光，粉碎所述激光照射部位的所述悬浊粒子，来制造纳米粒子，其特征在于，在向所述激光照射部位照射激光之前，冷却所述被处理液的所述激光照射部位。
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