[发明专利]高耐久性光催化剂薄膜以及使用该薄膜的表面具有光催化功能的构造物无效

专利信息
申请号: 03818428.1 申请日: 2003-07-30
公开(公告)号: CN1671546A 公开(公告)日: 2005-09-21
发明(设计)人: 西川量藏;田中尚树;仲山典宏 申请(专利权)人: 宇部日东化成株式会社
主分类号: B32B7/02 分类号: B32B7/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 郭煜;赵苏林
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种高耐久性光催化剂薄膜以及设置该高耐久性光催化剂薄膜而成的表面具有光催化功能的构造物。所述高耐久性光催化剂薄膜是在基材薄膜的一面,经由保护层设置光催化剂活性材料层的层合薄膜,其中,作为上述基材薄膜,使用在通过日光型耐候试验仪进行加速耐候性试验时显示特定性能的薄膜,同时作为保护层,使用有机-无机复合梯度膜,并且,对于该层合薄膜用日光型耐候试验仪进行加速耐候性试验时,显示特定的性能。
搜索关键词: 耐久性 光催化剂 薄膜 以及 使用 表面 具有 光催化 功能 构造
【主权项】:
1、一种高耐久性光催化剂薄膜,是具备(A)基材薄膜以及在其一面顺序设置的(B)保护层和(C)光催化剂活性材料层的具有光催化功能的层合薄膜,其特征在于,作为上述(A)基材薄膜,使用(1)对厚度为50μm的薄膜用碳弧式日光型耐候试验仪(光源225W/m2)进行3000小时的加速耐候性试验后,全光线透过率为85%以上,浊度值为5%以下,且黄变度(YI)为10以下,而且,(2)用甲基异丁基酮濡湿薄膜表面,放置20秒后,通过旋涂法(1500rpm、20秒)使液体飞溅后浊度值的变化为1%以下的薄膜,同时,作为上述(B)保护层,使用基材薄膜侧为有机高分子成分,其相反侧为金属氧化物系化合物成分,且二者的含有比率沿厚度方向连续变化的有机-无机复合梯度膜,并且,对于该层合薄膜,用碳弧式日光型耐候试验仪(光源225W/m2)进行3000小时的加速耐候性试验后,全光线透过率为85%以上,浊度值为5%以下,黄变度(YI)为10以下,且水接触角为10o以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宇部日东化成株式会社,未经宇部日东化成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03818428.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top