[发明专利]用作光致抗蚀剂的氟化聚合物和用于微石印术的方法

摘要

本发明提供了一种含氟共聚物，它具有衍生自至少一种氟烯烃的重复单元和衍生自具有侧接羟基或酯化羟基的至少一种多环烯不饱和单体的重复单元和任选的其它重复单元，典型的是衍生自丙烯酸酯类的重复单元。这些聚合物在诸如193纳米和157纳米的短波长处高度透明，具有良好的等离子体抗蚀性和粘合性质。本发明也提供了光致抗蚀剂组合物和用其涂覆的基底。

主权项

1.一种含氟共聚物，它包含：a)衍生自有至少一个共价地连接到烯不饱和碳上的氟原子的烯不饱和化合物的重复单元；b)从下式结构的烯不饱和环状化合物中衍生出来的重复单元：其中m是0，1或2；R¹到R¹²独立地是H，卤素，羧基，OH，或O₂C-R¹₃，其中R¹³是C₁-C₂₀烃基，R¹到R¹²至少一个是OH或O₂C-R¹³。