[发明专利]集成电路及其制造方法有效

专利信息
申请号: 03819383.3 申请日: 2003-07-01
公开(公告)号: CN1675768A 公开(公告)日: 2005-09-28
发明(设计)人: A·C·L·希斯塞斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;H01L23/58
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴立明;梁永
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 根据本发明的集成电路(1)包括一组单元(10),每一单元(11、13、15、19)包括具有器件参数的电子器件(20),该器件参数的参数值为随机参数变化的函数。该组单元(10)包括具有第一随机参数变化的第一子组(12)的识别单元(13);和第二子组(14)的单元(11、15、19),其能够通过测量识别单元(13)的参数值之间的随机差来产生识别代码。根据本发明,第二子组(14)的单元(11、15、19)具有小于第一随机参数变化的第二随机参数变化,由此使识别代码的产生相对较容易。
搜索关键词: 集成电路 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种集成电路(1),包括一组单元(10),每一单元(11、13、15、19)包括具有器件参数的电子器件(20),该器件参数具有作为随机参数变化的函数的参数值,该组单元(10)包括:- 第一子组(12)的识别单元(13);和- 第二子组(14)的单元(11、15、19),用于通过测量识别单元(13)的参数值来产生识别代码,其特征在于:识别单元(13)具有第一随机参数变化,而第二子组(14)的单元(11、15、19)具有第二随机参数变化,第一随机参数变化大于第二随机参数变化。
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