[发明专利]向-制程室提供气体的方法及设备无效
申请号: | 03820409.6 | 申请日: | 2003-07-16 |
公开(公告)号: | CN1678767A | 公开(公告)日: | 2005-10-05 |
发明(设计)人: | S·甘古里;L·陈;V·W·库 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/44;H01L21/00;B01D7/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 兹提供一种形成用于一制程系统之气体的方法及设备。于一实施例中,一种形成用于一制程系统之气体的设备包括一罐体,其具有至少一设于两埠间之挡板且该罐体含有一先趋物材料。该先趋物材料在一界定压力下加热至一界定温度时系适于形成一气体蒸气。该挡板可驱使载气按一延伸之平均路径(位于该入口埠及出口埠间)移动。于另一实施例中,一种用于形成气体之设备包括一罐体,其具有一管体,该管体可将流入该罐体之载气引离该罐体内之先趋物材料。 | ||
搜索关键词: | 制程室 提供 气体 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种形成用于一半导体制程系统之气体的设备,其至少包含:一罐体,其具有一侧壁、一顶部及一底部以界定一内部体积,该内部体积具有一上方区域及一下方区域;一入口埠及一出口埠,其穿设于该罐体并与该上方区域连通;至少一档板,其系设于该罐体之上方区域内,且介于该入口埠及该出口埠之间;以及一先趋物材料,至少部份填充该罐体之下方区域。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的