[发明专利]用于制造曝光结构的方法和装置无效
| 申请号： | 03820925.X | 申请日： | 2003-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN1678959A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·奥普韦;斯特凡·沙尔;迪尔克·莱嫩巴赫 | 申请（专利权）人： | 克列奥半导体技术有限商业两合公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 钟强;谷惠敏 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 用于借助于曝光装置(10)在大量组件上制造曝光结构的方法，在该曝光装置中，衬底体(28)和曝光装置彼此相对运动，其中，在至少一部分组件上制造相同的结构，为这样进行改进，使该方法尽可能高效地工作，提出每个相同的结构是在大量宏行内部通过在各个组件区域内曝光衬底体而产生的；每个宏行包括大量并排的行；在曝光装置的曝光行程的一次通过期间，大量宏行的同一宏行区域内所有被该曝光行程捕捉的组件均得到曝光；曝光装置具有大量光源和一个带有控制存储器的控制装置，其中，可以从该存储器中读出已经存储的其区域要被曝光的宏行的数据组，同时存储另一宏行的数据组。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 曝光 结构 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一方法，用于借助于曝光装置(10)在设置在至少一个衬底体(28)上的大量组件(34)上制造曝光结构(32)，在该曝光装置(10)中，设置在衬底载体(26)上的至少一个衬底体(28)和该曝光装置(10)彼此相对在一个主方向(X)上和一个与该主方向垂直的副方向(Y)上运动，其中，在至少一部分组件(34)上制造相同的结构，其特征在于，每个相同的结构(32)是在在主方向(X)上延伸且在副方向(Y)并排的大量(M)宏行(MZ)内部通过在各个组件(34)区域内曝光衬底体(28)而产生的；每个宏行(MZ)包括大量(V)在主方向(X)上延伸且在副方向上并排的行(Z)；在曝光装置(10)的曝光行程(W)的一次通过中，大量(M)宏行(MZ)的同一宏行(MZ)区域内所有被该曝光行程(W)捕捉到且具有相同结构的组件(34)均得到曝光；曝光装置(10)具有大量(N)光源(44)和一个带有控制存储器(52)的对这些光源基本上同时控制的控制装置(50)，该控制存储器(52)这样构成，使可以从其中读出已经存储的其区域要被曝光的宏行(MZ)的数据组，同时存储另一宏行(MZ)的数据组。
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