[发明专利]溅射靶及光记录介质有效
| 申请号： | 03821394.X | 申请日： | 2003-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN1681958A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | 矢作政隆;高见英生 | 申请（专利权）人： | 株式会社日矿材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G11B7/24 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;杨青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种溅射靶以及使用该靶形成以硫化锌为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质，其特征在于，以硫化锌为主成分，且含有导电性氧化物与氮化物。可得到一种以硫化锌为主成分的溅射靶以及使用该靶形成以硫化锌为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质，以溅射形成薄膜之际，可减少溅射时产生的粒子与结球，品质变动少、批量生产率得以提升，且结晶粒微细，体电阻值在5×10－2Ωcm以下、具备相对密度90％以上的高密度。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶以及使用该靶形成以硫化锌为主成分的相变型光盘保护膜的光记录介质，其特征在于：以硫化锌为主成分，且含有导电性氧化物与氮化物。
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