[发明专利]晶片涂敷和单切方法有效
申请号: | 03821452.0 | 申请日: | 2003-09-05 |
公开(公告)号: | CN1682363A | 公开(公告)日: | 2005-10-12 |
发明(设计)人: | 齐晶;詹尼斯·丹维尔;托马斯·克罗索维克 | 申请(专利权)人: | 飞思卡尔半导体公司 |
主分类号: | H01L21/44 | 分类号: | H01L21/44;H01L21/46 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 付建军 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 首先在晶片的活性表面侧进行划片(22)形成沟槽(38),该沟槽最终界定单个集成电路芯片边缘(39),划片仅达到晶片的部分深度。然后用底填料(40)涂敷(24)晶片的正面(36)。晶片的背面经精磨、研磨、抛光或其他处理(26)去除晶片材料直至与划切后的沟槽平齐。然后切断在涂敷步骤中沉积在沟槽中的底填料(92)以分切晶片(28),这样集成电路芯片(12)就从晶片脱离。 | ||
搜索关键词: | 晶片 方法 | ||
【主权项】:
1、一种在集成电路芯片上提供底填料和从晶片分切芯片的方法,依次包括以下步骤:a.提供一具有正面和背面的晶片,该晶片包含至少一个集成电路芯片,该集成电路芯片包含位于所述晶片正面的多个焊接凸点;b.切割所述晶片的正面,形成沟槽,该沟槽界定所述至少一个集成电路芯片的边缘,切割达到未完全切透晶片的深度;c.用底填料涂敷所述晶片的正面;d.精磨晶片的背面,充分减薄晶片的厚度,使得沟槽从所述正面延伸至所述后面;以及e.其中涂敷于晶片正面的底填料固定在集成电路芯片上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造