[发明专利]晶片涂敷和单切方法有效

专利信息
申请号: 03821452.0 申请日: 2003-09-05
公开(公告)号: CN1682363A 公开(公告)日: 2005-10-12
发明(设计)人: 齐晶;詹尼斯·丹维尔;托马斯·克罗索维克 申请(专利权)人: 飞思卡尔半导体公司
主分类号: H01L21/44 分类号: H01L21/44;H01L21/46
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 首先在晶片的活性表面侧进行划片(22)形成沟槽(38),该沟槽最终界定单个集成电路芯片边缘(39),划片仅达到晶片的部分深度。然后用底填料(40)涂敷(24)晶片的正面(36)。晶片的背面经精磨、研磨、抛光或其他处理(26)去除晶片材料直至与划切后的沟槽平齐。然后切断在涂敷步骤中沉积在沟槽中的底填料(92)以分切晶片(28),这样集成电路芯片(12)就从晶片脱离。
搜索关键词: 晶片 方法
【主权项】:
1、一种在集成电路芯片上提供底填料和从晶片分切芯片的方法,依次包括以下步骤:a.提供一具有正面和背面的晶片,该晶片包含至少一个集成电路芯片,该集成电路芯片包含位于所述晶片正面的多个焊接凸点;b.切割所述晶片的正面,形成沟槽,该沟槽界定所述至少一个集成电路芯片的边缘,切割达到未完全切透晶片的深度;c.用底填料涂敷所述晶片的正面;d.精磨晶片的背面,充分减薄晶片的厚度,使得沟槽从所述正面延伸至所述后面;以及e.其中涂敷于晶片正面的底填料固定在集成电路芯片上。
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