[发明专利]制备层和层系统的方法以及涂敷的基材有效
| 申请号： | 03821784.8 | 申请日： | 2003-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1681745A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | C·默勒;L·贝维格;F·科佩;T·屈佩尔;S·盖斯勒;S·鲍尔 | 申请（专利权）人： | 肖特股份公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;H05B3/74;C04B41/45;C23C16/00;C23C4/12;C03C17/36;C23C14/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 为制备具有功能层的基材，该基材具有高的光学性能和/或高的表面平滑度，特别是低的浊度和显著更低的粗糙度，本发明提供对基材涂敷至少一个功能层的溅射方法，其中涂敷功能层的溅射方法被中断至少一次并施加厚度小于20nm的夹层，本发明还涉及由该方法制备的涂敷的基材。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 系统 方法 以及 基材 | ||
【主权项】：
1.一种采用至少一个功能层(2)涂敷基材(1)的方法，包括如下步骤：a)在真空系统(5)中提供基材(1)和层起始材料，和b)通过层起始材料的溅射对基材(1)涂敷功能层(2)，其特征在于，b1)中断用于对基材(1)涂敷功能层(2)的层起始材料的溅射至少一次并制备夹层(4)，它不同于功能层且厚度为≤20nm，b2)在中断之后继续层起始材料的溅射。
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