[发明专利]磁记录介质和磁存储装置无效
申请号: | 03822082.2 | 申请日: | 2003-01-15 |
公开(公告)号: | CN1682282A | 公开(公告)日: | 2005-10-12 |
发明(设计)人: | 安东尼·阿简;E.·诺埃尔·阿巴拉 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | G11B5/64 | 分类号: | G11B5/64 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 付建军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种磁记录介质,包括衬底、记录磁层和设置在衬底和磁层之间的底层,记录磁层由CoCr合金构成并具有(1120)晶体织构,底层由AlV或AlRuV合金构成。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 存储 装置 | ||
【主权项】:
1.一种磁记录介质,包括:衬底;记录磁层,由CoCr合金构成并具有(1120)晶体织构;底层,其设置在衬底和磁层之间,由AlV或AlRuV合金构成。
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