[发明专利]制造系统以及发光元件的制作方法有效

专利信息
申请号: 03822329.5 申请日: 2003-09-19
公开(公告)号: CN1682569A 公开(公告)日: 2005-10-12
发明(设计)人: 山崎舜平;桑原秀明;村上雅一 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H05B33/10 分类号: H05B33/10;H05B33/14;C23C14/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘红;梁永
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种气相沉积方法和薄膜形成系统的气相沉积系统,通过该气相沉积方法和气相沉积系统可以更有效地利用EL材料,并且以高的生产率形成具有良好均匀性的EL材料。根据本发明,在薄膜形成室内,其中密封含有蒸发材料的多个容器的矩形蒸发源支架相对于衬底以一定间距移动,并且蒸发材料被气相沉积在衬底上。另外,在蒸发源支架移动同时,矩形蒸发源支架的纵向可以与衬底的一侧倾斜。另外,优选的是在气相沉积期间,在形成TFT时蒸发源支架的移动方向与激光束的扫描方向不同。
搜索关键词: 制造 系统 以及 发光 元件 制作方法
【主权项】:
1、一种制造系统,包括:装载室;与所述装载室连接的载运室;与所述载运室连接的多个薄膜形成室;以及与每个所述薄膜形成室连接的安装室;其中,每个所述多个薄膜形成室均包括:使掩膜和衬底的位置相互配准的对准装置;衬底支撑装置;多个蒸发源支架;以及用于移动所述蒸发源支架的装置;其中每个所述蒸发源支架包括容器和用于加热所述容器的装置,所述容器设置在每个所述蒸发源支架的纵向,并且每个所述容器中包含蒸发材料;其中所述安装室包括:用于预先加热所述容器的装置;以及用于载运所述容器到所述薄膜形成室中的所述蒸发源支架中的装置;其中每个所述多个薄膜形成室均与使每个所述薄膜形成室的内部为真空状态的第一真空抽气处理室连接;以及其中所述安装室与使所述安装室的内部为真空状态的第二真空抽气处理室连接。
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