[发明专利]用于等离子体加工系统中的改进的波纹管罩的方法和装置有效
| 申请号： | 03822376.7 | 申请日： | 2003-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1682345A | 公开（公告）日： | 2005-10-12 |
| 发明（设计）人： | 三枝秀仁;高濑均;三桥康至;中山博之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 范莉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于等离子体加工系统的改进的波纹管罩，其中结合到基底座电极的该波纹管罩的设计和制作通过实质使波纹管罩的侵蚀最小化从而有利地对波纹管提供了保护。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 加工 系统 中的 改进 波纹管 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种改进的波纹管罩，用于保护在等离子体加工系统的基底座上的波纹管，其包括：具有内表面、外表面、第一端和第二端的柱形壁，其中所述第一端包括附加凸缘，所述附加凸缘包括结合到所述柱形壁的所述内表面并用于与所述基底座配合的内部表面、结合到所述内部表面的内径表面以及结合到所述外表面和所述内径表面的外部表面，其中所述柱形壁的所述第二端包括端表面；以及结合到所述波纹管罩的多个暴露表面的保护层，其中所述多个暴露表面包括所述第二端的所述端表面、所述柱形壁的所述外表面、以及所述第一端的所述附加凸缘的所述外部表面。
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