[发明专利]降低一氮化钛光学涂层易裂性的方法有效

专利信息
申请号: 03822436.4 申请日: 2003-02-18
公开(公告)号: CN1688904A 公开(公告)日: 2005-10-26
发明(设计)人: F·E·伍达得;戴依盛 申请(专利权)人: 南壁技术股份有限公司;胡伯光学国际私人有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;B05D5/06;B32B7/10;B32B18/00;F21V9/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 余颖
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种以一氮化钛为主之光学涂层,通过在一氮化钛层(18)与基材(12)之间提供一抗损基底层(16)提升了该涂层之结构稳定性。对用于防晒的光学涂层来说,一氮化钛层的选择主要获得所需的光学特性为目的,抗损层厚度的选择主要以获得所需的机械特性。所述抗损层由灰金属形成,以镍铬为佳。灰金属层降低了一氮化钛层龟裂的可能性。对基材进行等离子体预辉光(88)和/或在基材上将涂以光学涂层的那面上涂以增滑剂(14)进一步降低了光学涂层龟裂和形成裂纹的倾向。
搜索关键词: 降低 氮化 光学 涂层 易裂性 方法
【主权项】:
1.一种形成光学元件的方法,包括:提供具有第一表面的柔性基材;和在所述第一表面上提供抗损层来保护随后形成的光学涂层,所述抗损层是灰金属;和提供所述光学涂层,该层是以一氮化钛为主的结构,其中的一氮化钛层位于所述抗损层背向柔性基材的那面上;其中,所述一氮化钛层的厚度满足达到所需光学特性的要求,所述灰金属的厚度满足达到所需机械特性的要求。
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