[发明专利]散射对齐法在平版压印中的应用无效

专利信息
申请号: 03822456.9 申请日: 2003-07-31
公开(公告)号: CN1997869A 公开(公告)日: 2007-07-11
发明(设计)人: M·P·C·瓦茨;I·姆克麦基;S·V·斯里尼瓦桑;B-J·乔伊;R·D·弗伊欣;N·E·苏马克 申请(专利权)人: 分子制模股份有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01N21/86
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 顾敏
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 介绍了用平版压印工艺在基底上形成图案的方法。在平版压印工艺中,先将液体分布到基底上,然后使模板与液体接触,并固化液体,其中固化液体包含在模板上形成的任何图案的印记。在一种实施方式中,用散射法使模板与预先在基底上形成的层对齐。
搜索关键词: 散射 对齐 平版 压印 中的 应用
【主权项】:
1.确定含有模板对齐标记的模板与含有基底对齐标记的基底之间对齐情况的方法,所述方法包括:将所述模板和所述基底重叠起来;获得多个对齐测定值;根据所述多个对齐测定值,鉴别与所述模板对齐标记和所述基底对齐标记的所需空间方向的偏差,确定对齐偏差;以及根据所述对齐偏差确定平均偏差。
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