[发明专利]缺陷区域管理无效
申请号: | 03822724.X | 申请日: | 2003-08-08 |
公开(公告)号: | CN1685428A | 公开(公告)日: | 2005-10-19 |
发明(设计)人: | J·F·R·布拉奎伊雷;D·P·凯利 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G11B20/18 | 分类号: | G11B20/18;G11B20/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴立明;张志醒 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一多层光学可写盘片(D)包括至少两层(L1、L2、……)和至少两个缺陷管理区域(DF1、DF2、……)。第一缺陷区域(DF1)位于第一径向位置(RP1)的至少两层的第一层(L1),而且第二缺陷区域(DF2)位于第二径向位置(RP2)的至少两层的第二层(L2)。所述第一径向位置(RP1)和第二径向位置(RP2)是不同的。 | ||
搜索关键词: | 缺陷 区域 管理 | ||
【主权项】:
1、一种光盘,包括至少两个可写层和至少两个缺陷管理区域,所述至少两个缺陷管理区域中的第一个位于所述至少两个可写层中的第一层的第一径向位置,所述至少两个缺陷管理区域中的第二个位于所述至少两个可写层中的第二个的第二径向位置,所述第二径向位置与所述第一径向位置不相同。
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