[发明专利]等离子加工系统中用于改进的沉积罩的方法和设备有效
| 申请号： | 03823244.8 | 申请日： | 2003-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1685465A | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | 三枝秀仁;高濑均;三桥康至;中山博之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 康建忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供用于包围等离子加工系统中加工空间的改进的沉积罩，其中沉积罩的设计和制造有利地在等离子加工空间中提供纯净的加工等离子，其对沉积罩具有基本最小的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 加工 系统 用于 改进 沉积 方法 设备 | ||
【主权项】：
1、一种用于包围等离子加工系统中加工空间的改进的沉积罩，其包括：圆柱体，其包括内表面、外表面、上端面和下端面，其中所述下端面进一步包括底唇缘表面；以及保护性阻挡层，其耦合至所述沉积罩的多个暴露表面上，其中所述暴露表面包括所述内表面、所述上端面、和所述下端面的所述底唇缘表面。
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