[发明专利]采用具有等离子体处理系统的光学系统的装置和方法无效
| 申请号： | 03823324.X | 申请日： | 2003-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN1685466A | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | 安德列·米德罗维奇;艾于敦·鲁德维克松 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种等离子体处理系统以及操作光学系统以及等离子体处理系统的操作方法。所述等离子体处理系统包括与等离子体处理系统的等离子体处理室连通的光学系统。所述光学系统具有窗口，并且被构造和布置成能够通过窗口和所述窗口的透射状况来检测等离子体处理状况。所述方法包括检测来自等离子体处理区的光发射，以及监测光学系统提供的窗口的污染状况。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 具有 等离子体 处理 系统 光学系统 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种等离子体处理系统，包括：具有开口并包含等离子体处理区的腔室；卡盘，所述卡盘被构造和布置成支撑所述腔室内所述处理区中的基片；与所述腔室连通的等离子体发生器，所述等离子体发生器被构造和布置成在等离子体处理过程中在所述等离子体处理区中产生等离子体；以及经由所述开口与所述腔室连通并具有窗口的光学系统，所述光学系统被构造和布置成检测窗口的透射状况，并且通过窗口检测等离子体处理状况。
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