[发明专利]用于测量和控制玻璃制品生产过程的分析系统及方法无效
| 申请号： | 03823410.6 | 申请日： | 2003-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN1685229A | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | 约普·达尔斯特拉 | 申请（专利权）人： | 希帕视觉有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/38 | 分类号： | G01N33/38;G01N21/35 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 夏青 |
| 地址： | 荷兰格*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 描述了一种分析和控制玻璃制品的成形工序的分析系统。该分析系统包括红外敏感测量系统和与之通信的处理器，该红外敏感测量系统被配备用以在玻璃制品的成形工序后立即测量从热的玻璃制品发出的红外辐射，该处理器被配备用以根据测量系统所确定的信息来确定玻璃制品中的热分布。由于该红外敏感测量系统只对所谓的近红外线(NIR)区内的辐射敏感，因此能够测量到从玻璃壁内部发出的辐射。这使得可能实现新颖的分析方法，利用这些方法，特别是可以分辨玻璃壁厚度的变化与温度的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 控制 玻璃制品 生产过程 分析 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种分析和控制玻璃制品的生产过程的分析系统，该生产过程包括成形工序和冷却工序，该分析系统包括红外敏感测量系统和与之通信的处理器，该红外敏感测量系统被配备用以在玻璃制品的成形工序后立即测量从热的玻璃制品发出的红外辐射，该处理器被配备用以根据该测量系统所确定的信息来确定玻璃制品中的热分布，其特征在于该红外敏感测量系统(30)只对近红外线范围内的辐射敏感。
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